鉆石不只在珠寶市場具有崇高地位，它的特性及硬度在不少產(chǎn)業(yè)或科技領(lǐng)域中也具重要應(yīng)用；但開采成本高昂，以至難以十分廣泛地應(yīng)用。培育鉆石由十多年前已在珠寶市場掀起不少討論聲浪，希望能以人工方式于實驗室制作出與天然鉆石同樣成分的培育鉆石，以減低天然鉆石的需求及更能應(yīng)用在各個領(lǐng)域的發(fā)展中。

無奈早年科技仍不夠成熟，開發(fā)培育鉆石的成本比開采天然鉆石的成本更高，成品更未達到寶石級的要求，因此珠寶市場上所見的鉆石仍是以天然鉆石為主。隨著時間發(fā)展，技術(shù)提升及成本的下降，培育鉆石近年得以推出于珠寶市場，現(xiàn)在培育鉆石主要分為CVD和HPHT兩種。

在了解這兩種鉆石之前，我們先聊聊天然鉆石的形成環(huán)境。眾所周知，鉆石是由碳原子組成，而同樣由碳原子組成的還有石墨，因為結(jié)構(gòu)不同，造成硬度、美觀等性質(zhì)有極大差異。而在高溫、高壓的驅(qū)使下，在地底120-200公里，4.5GPa-6GPa、1000度C~1500度C的環(huán)境下，經(jīng)兩三百萬年的擠壓醞釀，最后透過火山活動帶到地表，才得以產(chǎn)生一顆晶瑩剔透的鉆石。

過去技術(shù)不成熟時，認為只要模擬相應(yīng)的氣壓、溫度環(huán)境，便可合成出人工鉆石，因此高溫高壓法(HPHT)的鉆石躍然而出，至今仍被廣為使用。

HPHT技術(shù)(High Pressure High Temperature)是指「高溫高壓法」。過程是模仿天然鉆石的生長過程，將鉆石種子放置于指定的高壓力及高溫度條件的空間內(nèi)，將純碳材料（如石墨）熔化分解碳原子，借助其他金屬助熔劑，降低鉆石生長所需的條件，碳材料會借助助熔劑向鉆石種子移動并結(jié)晶，形成鉆石晶體。HPHT培育鉆石的生成對技術(shù)及儀器要求較CVD培育鉆石更高，但是以往的HPHT培育鉆石有可能會帶有金屬助熔劑的內(nèi)含物。

CVD技術(shù)(Chemical Vapor Deposition)是指「化學氣相沉積法」。過程是在存放著鉆石種子(一塊很小的天然鉆石)的特定真空環(huán)境中引入含碳原子(鉆石的成份是碳原子)的化學氣體，利用微波及高溫令氣體中的碳原子活化并釋放出來，令碳原子沉積在鉆石種子上，持續(xù)進行并累積生長成鉆石晶體；于生長周期內(nèi)會定期取出該原石打磨表面，并除去該表面的非碳原子元素。雖然CVD技術(shù)會在過程中伴隨地產(chǎn)生不同的副產(chǎn)品，但大多會隨著氣流被帶走，而不會留在鉆石種子上。因此，以CVD技術(shù)生成的鉆石比較容易控制鉆石的凈度。

近年，鉆石培育的技術(shù)大幅提升，處理成本隨之下降；HPHT培育鉆石成品帶有金屬內(nèi)含物的缺點已經(jīng)得到穩(wěn)定改善；CVD培育鉆石亦能制造出符合成本效益及市場需求的鉆石，將可持續(xù)發(fā)展的培育鉆石推出市場。

即使CVD和HPHT兩種培育鉆石的種類不同，但這種不同只是在制成方法上的分別，是按兩個不同的理論去生成，但制成出來同樣是鉆石，同樣擁有鉆石證書和同樣按鉆石的4C去評級?，F(xiàn)時，大多數(shù)可買得到的培育鉆石，品質(zhì)都已經(jīng)能達至成色優(yōu)秀及高凈度的天然鉆石。